【簡(jiǎn)介：】在過去的10年中，華為的研發(fā)投入共計(jì)3130億元人民幣。僅在2016年，華為的研發(fā)投入就有784億元人民幣。基本上每個(gè)年頭，華為都會(huì)把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，華為
在過去的10年中，華為的研發(fā)投入共計(jì)3130億元人民幣。僅在2016年，華為的研發(fā)投入就有784億元人民幣?；旧厦總€(gè)年頭，華為都會(huì)把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，華為在全球獲得的專利授權(quán)數(shù)量累計(jì)有62519件。其中，華為在中國的專利申請(qǐng)數(shù)量累計(jì)有57632件，在國外的專利申請(qǐng)數(shù)量累計(jì)有39613件。并且，華為在全球的專利申請(qǐng)總量中，有90%的專利申請(qǐng)為發(fā)明專利。華為現(xiàn)有研發(fā)人員8萬名左右，在華為的員工總數(shù)中占比差不多是一半。8萬名左右的研發(fā)人員遍布于全球。華為在全球共設(shè)有15個(gè)研發(fā)中心，如美國用戶體驗(yàn)設(shè)計(jì)中心、倫敦設(shè)計(jì)中心、印度軟件研發(fā)中心和歐洲5G研發(fā)中心。華為在不同國家或地區(qū)先后設(shè)立起這些研發(fā)中心的目的之一，就是為了吸引全球最優(yōu)秀的人才進(jìn)入華為。再有，華為的創(chuàng)新研究計(jì)劃已經(jīng)資助了1200多個(gè)研究項(xiàng)目，該計(jì)劃覆蓋20多個(gè)國家，300多所高校，2名諾貝爾獎(jiǎng)獲得者，100多名IEEE和ACM院士，以及國內(nèi)外數(shù)千名專家學(xué)者的參與。
于是，華為的科研實(shí)力強(qiáng)嗎？顯然，華為的科研實(shí)力不僅強(qiáng)，而且是很強(qiáng)。既然華為有著很強(qiáng)的科研實(shí)力，卻為什么研發(fā)不出光刻機(jī)？事實(shí)上，到目前為止，華為也并沒有想過要去研發(fā)光刻機(jī)。那為什么華為未曾想過要去研發(fā)光刻機(jī)？這道理人人都該懂的。華為在通信行業(yè)中歷經(jīng)30年的拼搏，好不容易才在該行業(yè)中成了數(shù)一數(shù)二的大型廠商。光刻機(jī)是什么？光刻機(jī)是一種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，特別是被廠商用于芯片制造的光刻機(jī)，所包含的（工藝）技術(shù)可謂十分的復(fù)雜且高難。雖然一臺(tái)光刻機(jī)的售價(jià)可以高達(dá)數(shù)千萬美元，甚至上億美元，但是華為突然從通信行業(yè)跨入到半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)，進(jìn)而自主研發(fā)光刻機(jī)，無異于是在冒一次天大的險(xiǎn)（得不嘗失）。就算華為經(jīng)受住了各種風(fēng)險(xiǎn)，集全力研發(fā)光刻機(jī)，也不見得華為最終能研發(fā)出比荷蘭ASML更好的光刻機(jī)來?；蛘哒f，華為若要研發(fā)光刻機(jī)，理當(dāng)要全面超過ASML，從而取代ASML在行業(yè)中的地位和作用。之后，華為不僅要能為英特爾、三星和臺(tái)積電等半導(dǎo)體廠商提供業(yè)界最先進(jìn)的設(shè)備，還要能為英特爾、三星和臺(tái)積電等廠商提供行內(nèi)最好的技術(shù)解決（個(gè)性化）方案。否則，華為便很可能步日本尼康和佳能的后塵。
在半導(dǎo)體行業(yè)中，前兩大半導(dǎo)體廠商即是英特爾和三星。英特爾和三星還有個(gè)共同點(diǎn)是，兩者都算得上是全能型半導(dǎo)體廠商。到了今天，人們都還沒有親耳聽到，親眼見到英特爾或者三星要自主研發(fā)光刻機(jī)。近幾年里，蘋果每年的收入都在2000億美元之上，凈利潤也是多到數(shù)百億美元。可是，蘋果至今未曾有過自主研發(fā)光刻機(jī)的念頭。除了英特爾、三星和蘋果外，全球還有很多企業(yè)同樣是有著很大的體量，有著很強(qiáng)的科研實(shí)力，這些企業(yè)亦都沒敢跨入到半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)，并自主研發(fā)光刻機(jī)。換言之，華為若在通信行業(yè)中干到極致，那便會(huì)是一家深受人們尊敬的超大型高科技企業(yè)。況且，華為在目前的產(chǎn)品線已然是相當(dāng)?shù)呢S富，業(yè)務(wù)范圍已然是相當(dāng)?shù)膹V。這就好比，不同的人，有著不同的專長(zhǎng)技能和天賦，每個(gè)人都應(yīng)該在各自的行業(yè)中盡可能地?fù)P長(zhǎng)避短，才有可能取得事業(yè)上的成功。中國前人們?cè)缫阎v出一個(gè)道理、“聞道有先后，術(shù)業(yè)有專攻”。
在國內(nèi)，之前有位專業(yè)人士在網(wǎng)上發(fā)表過自己的看法，“芯片制造是整個(gè)IT行業(yè)的基礎(chǔ)，OS的設(shè)計(jì)實(shí)踐與芯片息息相關(guān)，如果一國之IT行業(yè)有高端芯片制造能力，必然在發(fā)展過程中有足夠的機(jī)會(huì)形成底層軟件的研發(fā)能力”。該專業(yè)人士進(jìn)一步指出，“所以對(duì)于一國之IT產(chǎn)業(yè)而言，如果芯片制造工藝不行，相當(dāng)于發(fā)動(dòng)機(jī)造不出來，技術(shù)自然備受限制，高超不到哪里去”。上文已經(jīng)說到，華為幾乎不可能投入大量的資源自主研發(fā)光刻機(jī)，而國內(nèi)科研機(jī)構(gòu)卻可以，也應(yīng)該對(duì)光刻機(jī)展開探索和研發(fā)，以便全方位地掌握光刻機(jī)的制造原理和核心技術(shù)。
光刻機(jī)的英文稱謂為Mask Aligner。從狹義上講，光刻技術(shù)的大意是，廠商運(yùn)用光化學(xué)等原理和一整套的方法，把掩模版上的設(shè)計(jì)圖形“復(fù)制”到硅晶圓等基板上的工藝技術(shù)，該原理與照相有些相似，即硅晶圓片與光刻膠大體相當(dāng)于是照相底片與感光涂層。光刻機(jī)是廠商用于芯片制造的核心設(shè)備之一，也是技術(shù)難度最高，單臺(tái)研制成本最高的半導(dǎo)體設(shè)備。有媒體報(bào)道過，ASML等廠商為了研發(fā)出商用的極紫外光刻機(jī)（EUV光刻機(jī)），且不說之前用了太長(zhǎng)的時(shí)間，前前后后花費(fèi)掉的資金便已高達(dá)200億美元左右。
華為當(dāng)然沒有光刻機(jī)，因?yàn)楣饪虣C(jī)是從荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的，但是這個(gè)光刻機(jī)并不是華為生產(chǎn)的，華為也沒有能力生產(chǎn)光刻機(jī)，目前高端光刻機(jī)就只掌握在ASML一家公司的手里，而且對(duì)我們有一定的限制，這也是為什么高通等公司能生產(chǎn)最高緊密度的芯片的原因，因?yàn)樗麄儞碛凶钚碌腁SML的光刻機(jī)。
光刻機(jī)的英文稱謂為Mask Aligner。光刻機(jī)被稱之為芯片之母，光刻機(jī)的工作原理是把獲得的單一光源，通過技術(shù)手段最后形成一個(gè)點(diǎn)，聚光到硅晶圓上，最后在硅片上形成和電腦上的邏輯電路影像一樣的圖案，這個(gè)圖案的每個(gè)線路最小是在5納米左右。只有光刻機(jī)發(fā)出的光，才可以制作芯片。
所以光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，光刻機(jī)的好壞決定了芯片的好壞，也是研發(fā)成本最高的半導(dǎo)體設(shè)備，現(xiàn)在掌握在荷蘭的ASML手里，比如他研發(fā)的光刻機(jī)光研發(fā)費(fèi)用就高達(dá)200億美元。EUV光刻機(jī)的單價(jià)超過1億歐元（約8億元人民幣）。
目前我國芯片發(fā)展處于初期，華為有自己的麒麟芯片也是不錯(cuò)的技術(shù)，但是還是比不高高通的芯片，還有十余年的差距。而高通也是依賴于ASML的光刻機(jī)的，由此可見，華為根本不可能去
研發(fā)ASML旗下的這些光刻機(jī)，也得不償失。華為的核心優(yōu)勢(shì)還是在消費(fèi)電子領(lǐng)域。
雖然沒有光刻機(jī)，但是也不重要啊，全球化社會(huì)下本來就是整合全球的優(yōu)勢(shì)資源，現(xiàn)在華為整合了美國、日本等全球資源，才做出了這么好的手機(jī)，為什么要自己做光刻機(jī)呢？
華為最新發(fā)布的Mate 20 Pro價(jià)格高達(dá)8406元,你會(huì)買嗎？
