【簡介：】專利是有地域性的，如果某國外技術(shù)沒有在中國申請專利，那就無需取得許可，可以直接使用。
需要注意的是：
1、專利從申請到公布有一段時間周期，該技術(shù)有可能已經(jīng)在國內(nèi)提交了申請，但

專利是有地域性的，如果某國外技術(shù)沒有在中國申請專利，那就無需取得許可，可以直接使用。
需要注意的是：
1、專利從申請到公布有一段時間周期，該技術(shù)有可能已經(jīng)在國內(nèi)提交了申請，但是還未公開。
2、如果很確定沒在國內(nèi)申請，你可以在國內(nèi)正常生產(chǎn)、銷售，但是出口的話就必須了解該技術(shù)是否在你打算出口產(chǎn)品的國家申請了專利，否則就侵權(quán)了。

我國有沒有無人直升機

　2012.12.27日，由山東濰坊天翔航空工業(yè)有限公司自主研發(fā)的V750無人直升機首次在濰坊市北部沿海區(qū)域進行飛行，V750無人直升機起飛重量757公斤，任務載荷大于80公斤，最大平飛速度為每小時161公里，最大航程為500公里，續(xù)航時間大于4小時，是中國目前最大的無人直升機。

中國有沒有攻擊無人機，性能如何？

1）“暗箭”攻擊型無人機 2）“暗箭”目前才處于定型階段不可能試飛。 3）“暗箭”應用范圍：按照“暗箭”模型所宣稱的戰(zhàn)術(shù)要求和大致比例來看，基本可以確定該機是正常起飛重量在10噸以上的中型無人機，高空最大飛行速度應該能夠達到2馬赫并具備超音速巡航能力，低空最大飛行速度和綜合機動性也可以超過同類技術(shù)水平的有人駕駛常規(guī)戰(zhàn)斗機?！鞍导痹谳d荷和航程上應與F一35這種第四代戰(zhàn)斗機相差不多，采用標準飛行剖面時的作戰(zhàn)半徑能夠達到800～1000公里，完全有能力在機體內(nèi)部彈艙掛載約1000-1500公斤載荷，可以根據(jù)作戰(zhàn)任務掛載4枚250公斤制導炸彈或者同樣數(shù)量的SD一10空空導彈。 4）“暗箭”采用紅外／激光雷達裝置，可以對小型運動目標進行自主搜索、定位和分析，能夠依靠全球定位裝置和激光／紅外制導的制導彈藥進行精確打擊，依靠其低信號特征優(yōu)勢還能夠攜帶反輻射武器對敵方縱深進行攻勢防空壓制。

我國專利分為發(fā)明，實用新型和外觀設計三種這三種怎么區(qū)分

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發(fā)明保護產(chǎn)品和方法的技術(shù)方案
實用新型保護有具體結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的技術(shù)方案（化學品，粉末等無定型產(chǎn)品不可以申請）
外觀設計保護的是產(chǎn)品所承載的設計方案.例如:娃哈哈的瓶子以及瓶貼都可以申請外觀專利.最有名的金嗓子喉寶的盒子子就申請了外觀專利.您可以看看.
從專利號/申請?zhí)杹砜?申請?zhí)柕?位/第5位為1的表示發(fā)明專利，為2則是實用新型，為3的是外觀設計，為8/9的則是pct(PCT是指國際申請的意思)申請進入中國。

中國芯片最大痛點：光刻機為啥這么難？

光刻機應該不是中國芯片的最大痛點。分明是含有美國技術(shù)的代工嘛。據(jù)報道，國內(nèi)現(xiàn)有代工廠無一不是這樣，都不能讓華為芯片設計在自己那里變?yōu)楫a(chǎn)品。

自主研發(fā)國產(chǎn)光刻機分明有啊。上海微電子早就可以實現(xiàn)90nm光刻機的生產(chǎn)。倒是像軍民用飛機的航空發(fā)動機一樣，光刻機雖然有，我國是世界上極少數(shù)擁有的國家之一，已經(jīng)了不起，卻與全球頂級有著很大的差距，痛是痛著，但不是最大的痛，因為不像國內(nèi)代工廠們，自己不僅為技術(shù)水平是低端的而痛著，更由于被美國管制得死死的即“形有卻實無”而痛著，還讓本是芯片設計技術(shù)為世界先進的同一國兄弟企業(yè)為孤立無援而心痛著。

據(jù)報道上海微電子將在2021或2022年推出28nm光刻機。也有人說不叫28nm光刻機，而是193nm浸入式光刻機，193nm是光源波長，極限工藝是7nm。反正將是又進一步，并且，荷蘭ASML是集全世界之力搞出全球頂級的，我國則是在被封鎖相關(guān)技術(shù)的情況下單獨搞出來的，而擁有了低端的就會擁有高端的，最重要的是走上了自主研發(fā)的道路，這分外珍貴，也大有前途。

國產(chǎn)頂級光刻機制造的最大難點在于國內(nèi)還制造不出頂級零件。頂級光刻機必須通過整合那些相關(guān)頂級技術(shù)和零件才能實現(xiàn)是已知的，這是ASML的既有模式和成功經(jīng)驗。整合應該是相對容易的，然而，我國的鏡頭、光源、材料等等配套企業(yè)在技術(shù)水平上卻還不是世界頂級的，這是光刻機這個痛點持續(xù)存在的根本因素。

一國單獨造出頂級光刻機還沒有先例。世界頂級的光刻機技術(shù)和零件配套企業(yè)都是誰是已知的，卻又知道不會給我國提供配套，我國只能單打獨斗，這也就表明我國注定是發(fā)展慢于ASML的，盡管技術(shù)都是什么、復雜在哪里也是已知的，國內(nèi)配套企業(yè)就是難以很快提升技術(shù)水平，同時，顯然表明達到高端只是個時間問題，這符合科技研發(fā)的普遍規(guī)律。這一切都跟我國的航空發(fā)動機特別像。早就聽說ASML講過即使我國企業(yè)拿到圖紙也造不出頂級光刻機，此話肯定太離譜了，我國的上海微電子及其配套企業(yè)一定會堵住ASML的嘴。

已有的光刻機特別是將有的技術(shù)更進一步光刻機應該就能讓華為擺脫美國切斷國內(nèi)外代工渠道所致的困境。如果連中芯國際都代工不上華為芯片，華為大不了自己購買和使用上海微電子最新推出的光刻機，實現(xiàn)自己設計、自己制造，雖然只能暫時生產(chǎn)出中低端芯片，卻也是有路可走，立馬打破了美國政府的阻遏。

回答完畢，感謝題主！

芯片和光刻機，痛點和難，幾個關(guān)鍵詞組成的一個問題，充分說明了自從美國宣布制裁中興，到后來的制裁華為，再到后來增加的一系列實體名單，讓芯片國產(chǎn)化變成了異常熱的一個話題，國產(chǎn)芯片成為中國人的“芯”坎兒，讓生產(chǎn)芯片的光刻機更成為似乎比研制導彈原子彈更難的科學課題之一。

這個問題，還讓我想起了不久前的一則新聞，雖然后來證實這是個假新聞——

謠言：中科院已設計出2納米芯片在2020年2~4月間，不斷有網(wǎng)傳新聞稱中科院以設計出2納米芯片，甚至更有媒體誤傳成中科院以生產(chǎn)處2納米芯片。

事實的真相是中科院的科學家們實現(xiàn)了生產(chǎn)2納米芯片的關(guān)鍵技術(shù)突破——成功研發(fā)出了生產(chǎn)2nm及以下芯片工藝所需要的新型晶體管——疊層垂直納米環(huán)柵晶體管。

那么，這個疊層垂直納米環(huán)柵晶體管和2納米及一下機芯片有啥關(guān)系呢？

對于半導體行業(yè)來說，芯片是有一個個晶體管組成的，或者說晶體管是芯片的一個單元元器件。

但是，這些晶體管不是簡單地堆積羅列在一起。

至于我們常說的7nm、5nm、2nm的芯片是指晶體管與晶體管之間的距離為7nm、5nm、2nm，晶體管之間能在頭發(fā)絲的千分之一、萬分之一的距離上實現(xiàn)幾十億晶體管“部署”，并保證良品率，可見難度極大。

一般來說，芯片制造分為前段設計和后端制造，題主這個問題的提出，正是暴露出了中國芯片制造的問題要比芯片設計的問題更多。

在回答問題之前把中科院的這個疊層垂直納米環(huán)柵晶體管問題，是想說其實中國在芯片設計上，問題并不像光刻機那樣顯得那么難。

因為——

中國芯片看制造，芯片制造看光刻目前，紫光展銳、華為、中興通訊都實現(xiàn)了7納米芯片的設計，但依然需要與三星或臺積電合作。

譬如，來自中芯國際的新聞就說，中芯國際已經(jīng)繞過蘭ASML公司光刻機的專利，并能成功制造出7納米芯片，在今年年底即將量產(chǎn)。

而且，有一些芯片中國還不能獨立設計出來，或者設計出來在性能上不如外國的。

芯片設計屬于半導體產(chǎn)業(yè)生態(tài)中極為重要的一環(huán)，同等重要。

盡管7納米芯片與外國企業(yè)合作設計出來了，但是如果要國產(chǎn)化，中國企業(yè)卻造不出來，為什么？

因為中國沒有能夠制造7納米芯片的設備——7納米芯片光刻機。

相信會有人說那，中國現(xiàn)在技術(shù)已經(jīng)比較發(fā)達，造一臺7納米芯片光刻機不就行了嗎？像制造殲20一樣。

對不起，中國造不出來。

為什么？

中國不缺乏光刻機，缺乏的是高端光刻機好，說到光刻機，我們先說下，這個光刻機是做什么的？

光刻機，是把電子元器件，也就是剛才說到的晶體管，幾納米幾納米的晶體管，幾個億或幾十個億的電子元器件刻出來，這是最關(guān)鍵的一道工序。

目前只有荷蘭ASML能生產(chǎn)的光刻機也在5納米制程上。

像文首假新聞稱的中科院能夠制造出2納米的芯片，目前在全球，還未能有一家企業(yè)或國家能做出來。

既然說到荷蘭的ASML公司，在半導體行業(yè)或芯片制造光科技上很先進，到底有多先進呢？

我們必須回顧下荷蘭的ASML公司歷史。

荷蘭的ASML公司，并不是荷蘭這個國家的公司，而是集全球半導體行業(yè)設計、制造和材料行業(yè)所有產(chǎn)業(yè)鏈最前沿最高端最先進的公司作為股東成了的一家公司，為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務。

TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，像英特爾、三星、海力士、臺積電、中芯國際等。

而且，全球只有ASML有能力生產(chǎn)能力制造和出貨EUV光刻機，尼康的最高技術(shù)水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機。

EUV光刻機一臺可以銷售1.5億美元左右，而沉浸式光刻機一臺才幾千萬美元，相差一大截子。

問題是，其他企業(yè)像ASML都買到了，單單中國的中芯國際遭到了拒絕。

2018年，中芯國際曾向荷蘭ASML公司訂購兩臺光刻機，可直至今日，這兩臺光刻機依然不見蹤影，其給出的理由是未能取得荷蘭政府的同意，什么未能取得荷蘭政府的同意，大家都能明白，其眾所周知的原因肯定是背后的美國。

就像當年中國要與歐洲共同打造伽利略導航系統(tǒng)一樣，但結(jié)果確實中國只能支付巨資使用，卻不能參與技術(shù)，也和當年以色列售賣給中國無人機一樣，最后的結(jié)果都是未能交付。

光刻機：人類工業(yè)皇冠上的明珠有人這樣形容光刻機產(chǎn)業(yè)——人類工業(yè)皇冠上的明珠。

這不是沒有道理的，因為——

光刻機是一種集合了數(shù)學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

一輛汽車的零件，約有20000個。而一臺光刻機呢，據(jù)說有10w個零件。

光零件多還不算，更為關(guān)鍵的是，它集合了全球最高端做前沿的材料技術(shù)。

拿最先進的ASML極紫外光EUV光刻機為例，在這臺尖端光刻機上會看到全世界各國頂尖技術(shù)的薈萃：德國提供蔡司鏡頭技術(shù)設備，日本提供特殊復合材料，瑞典的工業(yè)精密機床技術(shù)，美國提供控制軟件、電源等等等等。

問題是，提供這些設備啊、材料啊、機床啊、軟件啊的公司，幾乎都是ASML的股東，簡單說，ASML的股東是光刻機制造業(yè)相關(guān)配套技術(shù)和設備供應的最高境界。

簡單說，EUV光刻機的生產(chǎn)是全球技術(shù)合作的產(chǎn)物，世界上任何一個國家都不具備單獨生產(chǎn)這種光刻機的技術(shù)和能力。

看到這里，相信都理解了為什么美國要限制中國使用光刻機和芯片技術(shù)，美國是用全球合作的最高端技術(shù)實現(xiàn)對中國的封鎖。

所以生產(chǎn)7nm、5nm芯片的光刻機，目前中國確實制造不出來，也不具備這樣的能力。

中國為什么造不出7納米芯片的光刻機這個問題，我想用兩個圖表來說明——

上圖是2019年全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈價值分布概覽。設備制造（光刻機光刻膠等）中國大陸的份額只有2%，其他地區(qū)中包括歐洲，日本，韓國，中國臺灣占到了51%，美國占到47%。

我們再來看設備制造中具體有哪些公司。

中國只有中微半導體和北方華創(chuàng)還算可以，但這兩家公司不是造光刻機的。

荷蘭在半導體設備制造方面是真的強，ASML吃掉了全世界光刻機市場的95%，佳能和尼康一般也不外賣。

中國光刻機，目前的最先進水平，應該是上海微電子的能制造28nm制程芯片的duv光刻機，有潛力做到7nm制程，但需要其他領(lǐng)域的配合。

至于說到其他領(lǐng)域的配合，偏偏，在光刻機領(lǐng)域上，中國存在著諸多領(lǐng)域的短板。

ASML的成功是全球頂尖產(chǎn)業(yè)鏈的幾盒融合。

佳能，尼康做了相機那么久，最后都退出EUV的研發(fā)，國內(nèi)光學基礎本來就不好，在激光器，鏡頭方面跟國外差距還很大，短時間內(nèi)很難追上。

光刻機，其零件基本都是精密度很高的，通常只有歐美日的老牌企業(yè)才能制造出來，賣給我們。

現(xiàn)在的問題是，即使中國設計出高端光刻機，制造光刻機的精密零件也得不到。

那就研制這些高精密度的零件吧，相信三年不行五年，五年不行十年，總能調(diào)試出來的。

雖然出來了仍然會落后，但由于摩爾定律的限制，總有一天會追上國際先進水平的。

到達到國際先進水平的時候，也許總研發(fā)資金千億以上了，考慮到時間成本，上萬億也可能。

就說中國的北斗系統(tǒng)，不也是經(jīng)過十幾年三代科學家才搞成功的么？

北斗投入要多大？

再說，在衛(wèi)星和航天領(lǐng)域，中國本就比較先進。

但在孤傲高科技領(lǐng)域不是。

話再說回來，即使高端光刻機研制出來，市場也小啊，只能銷售給有限的幾個企業(yè)。

為什么全球國家聯(lián)合起來組建一個荷蘭的ASML公司，也許也是因為產(chǎn)值、市場不大的原因，否則基于美國、日本的技術(shù)，不會不傾一國之力搞出來。

好了，終于花費巨資研究、設計、生產(chǎn)，搞出來了，但一年的需要量，可能就幾十億的產(chǎn)值。

完全自主研發(fā)高端光刻機，必然是個巨虧的生意。

再說，中國制造的光刻機，還面臨著諸多專利技術(shù)的限制。

相信依靠我們自己總有一天，能制造出來自己的光刻機，但任重道遠。

最后感謝題主。