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上海微電子已經(jīng)成功生產(chǎn)光刻機(jī)了么?這個領(lǐng)域國內(nèi)是什么水平?

作者:Anita 發(fā)布時間: 2022-06-15 02:54:57

簡介:】明年就能生產(chǎn)28納米光刻機(jī)。如果順利生產(chǎn)28納米光刻機(jī),中國百分之九十的芯片制造都可以自足。
7納米5納米只有用在高端手機(jī)上,電腦14納米都算是非常先進(jìn),其他行業(yè)48納米制成的

明年就能生產(chǎn)28納米光刻機(jī)。如果順利生產(chǎn)28納米光刻機(jī),中國百分之九十的芯片制造都可以自足。

7納米5納米只有用在高端手機(jī)上,電腦14納米都算是非常先進(jìn),其他行業(yè)48納米制成的芯片都已經(jīng)是非常先進(jìn)了。臺積電三星中芯國際不代工,華為干脆暫時放下手機(jī)業(yè)務(wù),轉(zhuǎn)戰(zhàn)別的領(lǐng)域。購買國產(chǎn)48納米光刻機(jī),足以讓華為不被卡脖子。

光刻機(jī)難不難確實(shí)很難,對企業(yè)來說是真難,主要成本控制問題。如果成本控制不再考慮中,光刻機(jī)難不難,回答是給幾年時間完全能彌補(bǔ)上技術(shù)的差距。國家一旦調(diào)動各方力量,二三年基本上能接近荷蘭ASML廠家的水平。

上海微電子可以制造光刻機(jī)不是啥新鮮事,人家從2002年就開始立項(xiàng)研發(fā)光刻機(jī)了,只是我們技術(shù)實(shí)在落后,人才又缺乏,因此進(jìn)展一直比較緩慢。不過,進(jìn)入2010年后國產(chǎn)研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷攻克光刻機(jī)核心子系統(tǒng)的技術(shù)南廣,未來我國光刻機(jī)將會迎來較快的發(fā)展,基本上可以從低端躍至中端,然后將向最后的高端領(lǐng)域發(fā)起沖擊。

1、上海微電子現(xiàn)有情況:目前國內(nèi)研發(fā)光刻機(jī)的廠商不少,但屬于領(lǐng)先地位的就只有上海微電子,能量產(chǎn)的90nm光刻機(jī),其他廠商只能生產(chǎn)200nm、300nm這樣的光刻機(jī),但在全球光刻機(jī)領(lǐng)域上海微電子屬于低端。

目前,有消息稱上海微電子正在研發(fā)28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī),但實(shí)際情況未知。如果說這臺28nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)能研發(fā)成功,那么我國芯片生產(chǎn)或?qū)⒒窘鉀Q自主問題。

因?yàn)椋?8nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)不僅僅只能用來生產(chǎn)28nm制程芯片,通過套刻多重曝光可以實(shí)現(xiàn)10nm芯片,如果代工廠技術(shù)過關(guān),甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片。

這意味著在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域,我們可以實(shí)現(xiàn)較為先進(jìn)的芯片技術(shù),至于具體能不能生產(chǎn)就看中芯這類代工廠的生產(chǎn)技術(shù)了。

2、我國在光刻機(jī)領(lǐng)域的水平:全球能做光刻機(jī)的廠商其實(shí)沒幾家,除了荷蘭ASML,剩下就是日系廠商尼康和佳能,以及我們的上海微電子。

但是從這2年的發(fā)展來看,未來這個領(lǐng)域應(yīng)該只有我們和ASML競爭了。日系廠商基本屬于出局狀態(tài),這塊它們不愿意再進(jìn)行大量的投資,一句話燒不起這錢。

目前我國對于光刻機(jī)基本屬于舉國體制運(yùn)作,2009年中科院牽頭執(zhí)行了02專項(xiàng)計(jì)劃,專門來解決光刻機(jī)的問題。光刻機(jī)由于整個系統(tǒng)復(fù)雜,牽涉技術(shù)領(lǐng)域較多,因?yàn)楦骱诵淖酉到y(tǒng)均分配給了不同的技術(shù)團(tuán)隊(duì)和廠商來研發(fā)。

截至2020年,我們已經(jīng)解決了雙工件臺(下圖)、浸液系統(tǒng)、準(zhǔn)分子激光光源等核心子系統(tǒng),基本掃清了光刻機(jī)的主要技術(shù)難關(guān),這些子系統(tǒng)如果放眼全球,基本上都是全球第二或第三掌握這些技術(shù)的廠商。

后續(xù)就看上海微電子如今將這些子系統(tǒng)進(jìn)行整合了,他們只是系統(tǒng)制造商。

另外最先進(jìn)光刻機(jī)使用的EUV光源,我們也正在研發(fā)中,按早前的規(guī)劃似乎要到2030年。

Lscssh科技官觀點(diǎn):綜合來說,現(xiàn)階段我國在光刻機(jī)領(lǐng)域正逐步發(fā)展中,也取得了一定的成績,如果小道消息靠譜,那預(yù)估5年內(nèi)我們或許可以有較為先進(jìn)的光刻機(jī)(28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī))。但是,要想真正沖擊高端領(lǐng)域,我們還需要花費(fèi)很長的時間,至少10年起步甚至要更長時間。

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